新型酞菁铜L—B薄膜及其气敏特性

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合成了一种新型的酞菁铜衍生物——四—4-(2、4-二特戊基苯氧基)酞菁铜(以下简称tapCuPc)。藉助紫外——可见吸收光谱和透射电镜获得的表面形貌和膜层厚度的照片,研究了成膜条件对成膜质量的影响。在最佳成膜条件下,得到了平滑而均匀的表面结构。用Langmuir-Blodgett(L—B)薄膜技术在平面又指电极上沉积LapCuPc L—B薄膜。制成高灵敏、优良选择性,快速响应和恢复特性的气敏传感原理型器件。研究了气敏响应特性。发现tapCuPc LB薄膜对NH_3具有单一的探测选择性,对NO_2,H_2S
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