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2006年3月，IBM公司宣告实现了最小尺寸（29．9am）的高质量光刻图样（见本刊2006年第5期），Jacqueline Hewett解释了其光刻技术的工作原理和对于重大突破之处。
浸没技术拓展光刻尺度
【摘 要】
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2006年3月，IBM公司宣告实现了最小尺寸（29．9am）的高质量光刻图样（见本刊2006年第5期），Jacqueline Hewett解释了其光刻技术的工作原理和对于重大突破之处。
【出 处】
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激光与光电子学进展
【发表日期】
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2006年7期
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