【摘 要】
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光刻胶作为印刷电路板线路影像转移制程的关键材料,其工艺质量将直接影响电子器件的质量。基于微电子微型图像加工工艺,以胶液涂布头为研究对象,建立涂布头三维结构模型,并运
【机 构】
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长兴（广州）电子材料有限公司,广东工业大学,华南理工大学工商管理学院
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光刻胶作为印刷电路板线路影像转移制程的关键材料,其工艺质量将直接影响电子器件的质量。基于微电子微型图像加工工艺,以胶液涂布头为研究对象,建立涂布头三维结构模型,并运用CFD仿真模拟软件获得涂布头内部胶液温度场,探究胶液入口温度对涂布稳定性的影响。结果显示:涂布头横向温度均匀性与涂布稳定性密切相关,当温度高于32.5℃,出口横向温度分布均匀一致,有利于提升涂布效果的稳定性。
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