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本文从多方面对下一代光刻技术做了介绍和分析，重点描述了纳米压印光刻技术、极紫外光刻技术、无掩模光刻技术、原子光刻技术、电子束光刻技术等的原理、现状和优缺点，并展望了未来数十年的主流光刻技术。
下一代光刻技术
【摘 要】
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本文从多方面对下一代光刻技术做了介绍和分析，重点描述了纳米压印光刻技术、极紫外光刻技术、无掩模光刻技术、原子光刻技术、电子束光刻技术等的原理、现状和优缺点，并展望了
【机 构】
：
青岛杰生电气有限公司
【出 处】
：
科技与企业
【发表日期】
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2015年13期
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