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应用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）技术，以CH4／H2／N2为主要气源，通过添加CO2辅助气体，并与未添加CO2辅助气体进行对比，进行了金刚石膜沉积。研究了添加不同浓度CO2对生长金刚石膜的影响。结果表明：当CO2流量在0～25cm3／min范围变化时，金刚石膜表面粗糙度分别为8．9nm、6．8nm、9．2nm、9．6nm。表明适量引入CO2可以降低膜面粗糙度，但是进一步提高CO2流量，膜面粗糙度反而上升。同时当CO：流量在0～15cm3／min范围变化时，金刚石膜的品质和生长都表现出上升趋势，但