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对矩形溅射靶电磁场进行了仿真分析,优化设计,从而优化溅射靶表面电磁场分布,增大均匀沉膜区域范围,提高靶材利用率。
矩形磁控溅射靶电磁场分析及优化
【摘 要】
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对矩形溅射靶电磁场进行了仿真分析,优化设计,从而优化溅射靶表面电磁场分布,增大均匀沉膜区域范围,提高靶材利用率。
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十八研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2017年4期
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