纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：dongyu661

【摘要】

：

利用自行研制的磁过滤等离子体设备,在室温条件下的不锈钢基底上成功地制备了性能良好的纳米结构TiN薄膜.运用原子力显微镜和X射线衍射仪对其结构和形貌进行了表征.利用纳米

【作者】

：

闫鹏勋吴志国徐建伟张玉娟李鑫张伟伟

【机构】

：

兰州大学等离子体与金属材料研究所,兰州大学等离子体与金属材料研究所

【出处】

：

人工晶体学报

【发表日期】

：

2004年6期

【关键词】

：

TIN薄膜不锈钢基底结构和性能纳米结构室温条件等离子体表征制备性能研究自行研制 nano-structure TiN thin film pl

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利用自行研制的磁过滤等离子体设备,在室温条件下的不锈钢基底上成功地制备了性能良好的纳米结构TiN薄膜.运用原子力显微镜和X射线衍射仪对其结构和形貌进行了表征.利用纳米硬度仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果显示:沉积的TiN薄膜表面非常平整光滑,致密而无缺陷;硬度远高于粗晶TiN的硬度;TiN晶粒尺寸在30～50nm;沉积过程中在基底上施加的负偏压会影响纳米结构TiN薄膜的结构和性能.

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