【摘 要】
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采用射频磁控溅射方法,在石英衬底上制备CuCrO2薄膜。通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、紫外吸收光谱以及电导率的测定,表征不同衬底温度沉积薄膜样品的结构与光电
【机 构】
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内蒙古工业大学材料科学与工程学院,北京工业大学材料科学与工程学院
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(11762014),内蒙古工业大学校基金资助项目(ZD201710).
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采用射频磁控溅射方法,在石英衬底上制备CuCrO2薄膜。通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、紫外吸收光谱以及电导率的测定,表征不同衬底温度沉积薄膜样品的结构与光电性能。结果表明:薄膜的结晶度、可见光透过率与室温电导率均随衬底温度的升高而增大。衬底温度升高至923 K后,薄膜由非晶转变为具有铜铁矿结构的单相CuCrO2。1023 K沉积的薄膜光电性能最佳,其平均可见光透过率为50%,室温电导率为0.33 S/cm。在近室温区(150~300 K),1023 K沉积薄膜导电规律符合半导体热激
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