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加州圣何塞——Silicon Integration Initiative(Si2)和SEMI日前宣布一项合作协议，旨在应对日益复杂的集成电路可制造性设计以及不断增长的成本问题。
Si2和SEMI宣布联手改良集成电路可制造性设计
【摘 要】
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加州圣何塞——Silicon Integration Initiative(Si2)和SEMI日前宣布一项合作协议，旨在应对日益复杂的集成电路可制造性设计以及不断增长的成本问题。
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2005年5期
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