【摘 要】
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通过改变N2气流量、沉积偏压等参数,采用高功率脉冲磁控溅射沉积技术制备Ti-B-N涂层,研究N掺杂含量对涂层相结构、力学性能及导电性能的影响及作用。结果表明:研究所制备出的Ti-B-N涂层相结构均由fccTiN、a-BN组成。N极易与B结合得到软质、脆性a-BN,导致涂层的力学性能较差,硬度下降至~17 GPa。随着N2气流量的增加,Ti-B-N涂层的电导性下降,这是因为增加N含量导致涂层晶粒得到细化,晶界含量增多,从而提升了电阻率。
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通过改变N2气流量、沉积偏压等参数,采用高功率脉冲磁控溅射沉积技术制备Ti-B-N涂层,研究N掺杂含量对涂层相结构、力学性能及导电性能的影响及作用。结果表明:研究所制备出的Ti-B-N涂层相结构均由fccTiN、a-BN组成。N极易与B结合得到软质、脆性a-BN,导致涂层的力学性能较差,硬度下降至~17 GPa。随着N2气流量的增加,Ti-B-N涂层的电导性下降,这是因为增加N含量导致涂层晶粒得到细化,晶界含量增多,从而提升了电阻率。
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