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激光内雕刻系统中，三维点的雕刻次序关系到雕刻的质量和效率。在考虑雕刻光路和激光能量分布影响的基础上，借鉴图像处理的思想及投影操作，提出了一种量化若干层内雕刻点光路遮挡程度的方法，并将遮挡程度的量化结果作为扩大点集合的判断依据，由此可采用柔性的方法调节雕刻质量与效率的平衡。
基于焦点能量均衡的激光内雕刻路径优化
【摘 要】
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激光内雕刻系统中，三维点的雕刻次序关系到雕刻的质量和效率。在考虑雕刻光路和激光能量分布影响的基础上，借鉴图像处理的思想及投影操作，提出了一种量化若干层内雕刻点光路遮挡
【机 构】
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华中科技大学国家数控系统工程技术研究中心
【出 处】
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中国机械工程
【发表日期】
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2008年5期
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