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综述了具有二次电子发射功能的MgO薄膜的主要制备方法,包括电子束蒸发、磁控溅射、溶胶-凝胶、分子束外延和脉冲激光沉积法。阐述了各种方法在制备MgO薄膜方面的优点和不足,讨论了不同的制备方法对MgO薄膜结晶取向、表面形貌等性质的影响。分析表明,利用磁控溅射法制备MgO薄膜可获得较高的二次电子发射率。