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本文研究了在不同气体环境下,利用532bn Nd:YAG纳秒脉冲激光累积辐照单晶硅表面形成的微结构。结果表明,在其他条件相同,背景气体不同的情况下,背景气体对硅表面形貌的形成起着霞要的作用。具体分析了真空、N:和SF6 3种环境气氛下形成的微结构,结果显示,在SF6中形成的锥形微结构的数密度比在N2和真空中的大,并且锥形具有更大的纵横比;在N2、真空和SF6中形成的微结构尺寸依次减小。SF6气氛下,激光辅助化学刻蚀的效率比在真空和N2气氛中的高。另外,辐照区域边缘有波纹微结构形成,分析认为,该微结构的形成是由表面张力波的冷却导致的。