钨离子注入对4Cr5MoV1Si表面成分和结构的影响

来源 :南通工学院学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:eqsd521
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本文给出用金属蒸汽真空弧离子源对4Cr5MoV1Si进行钨离子束表面处理的实验结果,讨论了钨离子注入对样品表面成分和结构的影响. In this paper, the experimental results of tungsten ion beam surface treatment of 4Cr5MoV1Si with metal vapor vacuum arc ion source are given, and the effect of tungsten ion implantation on the surface composition and structure of the sample is discussed.
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