【摘 要】
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在纳米工艺下,老化效应与软差错共同引发的集成电路可靠性问题至关重要,目前,考虑多个因素分析老化效应对软差错率影响的工作相对较少.作为一种典型的老化效应,偏置温度不稳
【机 构】
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上海电力学院计算机科学与技术学院,同济大学软件学院,安徽工程大学计算机与信息学院
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(61432017,61404092);上海电力学院人才启动基金项目(K-2013-017);上海高校青年教师资助计划项目(Z2015-074);上海市科委地方能力建设项目(15110500700);安徽省自然科学基金项目(1808085MF203)~~
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在纳米工艺下,老化效应与软差错共同引发的集成电路可靠性问题至关重要,目前,考虑多个因素分析老化效应对软差错率影响的工作相对较少.作为一种典型的老化效应,偏置温度不稳定性（bias temperature instability,BTI）效应包括发生在PMOS中的负偏置温度不稳定性（negative bias temperature instability,NBTI）和发生在NMOS中的正偏置温度不稳定性（positive bias temperature instability,PBTI）,现有工作多聚焦
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