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研究了反应电子束蒸发氧化物光学薄膜在空气中的应力。为了找到能减小多层膜结构内应力的淀积工艺参数,测试了氧化物膜层TiO2,Ta2O5,SiO2,Al2O3,HfO2的应力，发现有些膜层为压应力，一些高折射率膜为张应力。实验表明,热处理可以有效地降低氧化物膜层光学吸收,并改变应力。
电子束反应蒸发氧化物薄膜的应力特性
【摘 要】
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研究了反应电子束蒸发氧化物光学薄膜在空气中的应力。为了找到能减小多层膜结构内应力的淀积工艺参数,测试了氧化物膜层TiO2,Ta2O5,SiO2,Al2O3,HfO2的应力，发现有些膜层为压
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所,浙江大学光电信息工程学系
【出 处】
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光电工程
【发表日期】
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2001年1期
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