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随着纳米科技的迅速发展．下一代光刻技术在微细加工领域发挥着日益重要的作用。作为复杂半导体加工主要手段之一的电子束曝光系统，需要稳定完善的控制软件来保证其正常运行。本文介绍了电子束曝光控制系统的设计原理，并着重介绍了其对电子束曝光的全过程进行控制的强大功能。
基于VC＋＋6．0的电子束曝光控制系统
【摘 要】
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随着纳米科技的迅速发展．下一代光刻技术在微细加工领域发挥着日益重要的作用。作为复杂半导体加工主要手段之一的电子束曝光系统，需要稳定完善的控制软件来保证其正常运行。本
【机 构】
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中国科学院电工研究所,中国科学院研究生院
【出 处】
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微计算机信息
【发表日期】
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2009年4期
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