【摘 要】
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本研究通过常压CVD法在玻璃基板上分别镀制单层SnO2∶Sb（ATO）薄膜和SnO_2∶F（FTO）/ATO复合薄膜,研究单层ATO薄膜和复合薄膜对玻璃光电性能的影响。结果表明：单层ATO薄膜和复合薄膜
【机 构】
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海南中航特玻科技有限公司,特种玻璃国家重点实验室,海南大学材料与化工学院
【基金项目】
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国家科技支撑计划资助项目（2013BAJ15B04）, 海南省重大科技资助项目（ZDZX2013002-2）
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本研究通过常压CVD法在玻璃基板上分别镀制单层SnO2∶Sb（ATO）薄膜和SnO_2∶F（FTO）/ATO复合薄膜,研究单层ATO薄膜和复合薄膜对玻璃光电性能的影响。结果表明：单层ATO薄膜和复合薄膜均为四方金红石型多晶SnO_2薄膜,且结晶性能良好,结晶度高。单层ATO薄膜可明显降低玻璃的透过率,改善玻璃的导电性和遮阳性。复合薄膜相对于单层ATO薄膜,导电性、遮阳性和辐射性能均有较大的提升,薄膜电阻率、遮阳系数和辐射率随着复合薄膜膜厚的增加而逐渐降低,薄膜晶粒增大。当复合薄膜厚度为821nm时,薄膜电
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