【摘 要】
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采用电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）常规模式测定三氯氢硅中砷时,40 Ar35 Cl＋会对75 As＋的信号产生严重干扰,同时若直接进行测定,大量硅基体的存在不仅会有基体效应,也会造成对
【机 构】
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云南冶金云芯硅材股份有限公司,云南省光电子硅材料制备技术企业重点实验室
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采用电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）常规模式测定三氯氢硅中砷时,40 Ar35 Cl＋会对75 As＋的信号产生严重干扰,同时若直接进行测定,大量硅基体的存在不仅会有基体效应,也会造成对采样锥、截取锥和进样系统的堵塞,这些都给ICP-MS测定三氯氢硅中痕量砷带来了难题。实验利用石墨氮气挥三氯氢硅装置在50-90℃下对液体三氯氢硅样品进行挥发处理,以体积比为1∶1∶1∶8的氢氟酸-硝酸-过氧化氢-水为混合浸取液体对挥发后的样品残渣进行浸取,解决了因大量硅基体存在而引起的问题。同时,实验采用氢气-氦气混
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