CL-20与树形分子键合剂的粘附性能研究

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通过使用扫描电镜(SEM),X射线光电子能谱(XPS)技术来研究树形分子键合剂(DBA)对CL-20晶体的粘附性能及其界面相互作用机理.实验表明了树形分子键合剂可以在CL-20表面形成一层吸附层,具有良好的粘附性能,X射线光电子能谱的化学位移也表明了键合剂与CL-20的N元素发生诱导效应.
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