【摘 要】
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利用单辊法制备宽5mm厚25μm的非晶FeSi带材，利用XRD、SEM和EDS等手段对其进行了表征，并利用4294A阻抗分析仪，在0～100MHz频率范围内研究了样品的点压磁阻抗效应。结果表明，非晶带
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利用单辊法制备宽5mm厚25μm的非晶FeSi带材，利用XRD、SEM和EDS等手段对其进行了表征，并利用4294A阻抗分析仪，在0～100MHz频率范围内研究了样品的点压磁阻抗效应。结果表明，非晶带的阻抗随着频率的增加而增加，并随压力的增加变化更加敏感，尤其是频率在1～100MHz范围内时。非晶FeSi带材具有优越的压磁效应，在频率为100MHz，阻抗变化可达34．9433Ω。
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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技