【摘 要】
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聚甲基苯乙基硅烷(PMPES)具有对紫外光极为敏感、耐热性能好、易于工业化的特点,是一种新型高分辨的光致抗蚀剂材料。本文研究了PMPES的紫外光降解行为,其降解规律属无规降解
【机 构】
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四川大学化学系,四川大学化学系成都610064,成都610064
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聚甲基苯乙基硅烷(PMPES)具有对紫外光极为敏感、耐热性能好、易于工业化的特点,是一种新型高分辨的光致抗蚀剂材料。本文研究了PMPES的紫外光降解行为,其降解规律属无规降解,具有显著的光漂白作用。体系中加入三乙氧基硅烷,可大大加速PMPES的光降解,加入香豆素对PMPES的光降解程度有所抑制,并对其机理作了初步解释。PMPES光降解前后的ESCA谱和IR谱表明,光降解和光氧化同时进行。更多还原
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