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不同化学镀液中p—Si上激光诱导局部沉积铜
不同化学镀液中p—Si上激光诱导局部沉积铜
来源 :应用化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:whhuazi
【摘 要】
:
在化学镀铜溶液中,p-Si片在波长为514.5nm的激光束的照射下,得到了选择性的铜镀层。采用AES、SEM、RBS和电学技术对比了在3种含不同还原剂的镀液中得到的镀层的形貌、组成、界面扩散及电学性质,探讨了
【作 者】
:
姜贵凤
郁祖湛
【机 构】
:
复旦大学化学系
【出 处】
:
应用化学
【发表日期】
:
1996年2期
【关键词】
:
化学镀铜
激光诱导沉积
化学沉积
铜
镀铜
electroless plating
laser-induced deposition
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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在化学镀铜溶液中,p-Si片在波长为514.5nm的激光束的照射下,得到了选择性的铜镀层。采用AES、SEM、RBS和电学技术对比了在3种含不同还原剂的镀液中得到的镀层的形貌、组成、界面扩散及电学性质,探讨了液相激光诱导化学沉积铜的机理。
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