不同化学镀液中p—Si上激光诱导局部沉积铜

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在化学镀铜溶液中,p-Si片在波长为514.5nm的激光束的照射下,得到了选择性的铜镀层。采用AES、SEM、RBS和电学技术对比了在3种含不同还原剂的镀液中得到的镀层的形貌、组成、界面扩散及电学性质,探讨了液相激光诱导化学沉积铜的机理。
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