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用电子束曝光方法在优化设计的绝缘体上硅脊状波导上实现布拉格光栅的制作和评价
用电子束曝光方法在优化设计的绝缘体上硅脊状波导上实现布拉格光栅的制作和评价
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qnmdmmmm
【摘 要】
:
报道了一种用电子束曝光的方法在绝缘体上硅的脊状光波导上制做布拉格光栅的技术.考虑到实际的光子学集成的应用,讨论了这个带有布拉格光栅的脊状光波导的优化设计,给出了该布拉
【作 者】
:
武志刚
张伟刚
王志
开桂云
袁树中
董孝义
宇高胜之
和田
【机 构】
:
南开大学现代光学研究所,早稻田大学理工学部
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2006年8期
【关键词】
:
集成光学
布拉格光栅
绝缘体上硅
脊状光波导
integrated optics Bragg grating silicon-on-insulator rib
【基金项目】
:
国家自然科学基金资助项目(批准号:60577018).
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报道了一种用电子束曝光的方法在绝缘体上硅的脊状光波导上制做布拉格光栅的技术.考虑到实际的光子学集成的应用,讨论了这个带有布拉格光栅的脊状光波导的优化设计,给出了该布拉格光栅的测试和理论模拟结果,通过薄化绝缘体上硅的波导层的厚度和光栅的深腐蚀加工,获得了高达30cm^-1的光栅耦合系数。
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