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场发射显示技术在原理上具有多种优越性能,可能在未来平板显示技术中居主导地位.硅基场发射阴极易于与其周边驱动电路实现集成,因而更具有明显的开发前景.在综述硅基场发射阴极材料最新研究进展的基础上,就其所面临的问题、可能的解决方案和未来的发展趋势做出了评述.
硅基场发射阴极材料研究进展
【摘 要】
：
场发射显示技术在原理上具有多种优越性能,可能在未来平板显示技术中居主导地位.硅基场发射阴极易于与其周边驱动电路实现集成,因而更具有明显的开发前景.在综述硅基场发射阴
【机 构】
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郑州大学物理系,郑州大学物理系
【出 处】
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科学技术与工程
【发表日期】
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2005年3期
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