AlGaN/GaN HEMT高场应力退化及紫外光辐照的研究

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liongliong419
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
采用不同的应力偏压发现器件特性的下降程度随应力偏置电压的增大而增大.经过3×10^4s 40V高场应力后,蓝宝石衬底AlGaN/GaN HEMT饱和漏电流下降5.2%,跨导下降7.6%,从器件直流参数的下降分析了应力后的特性退化现象并与连续直流扫描电流崩塌现象进行了对比,同时观察了紫外光照对应力后器件特性退化的恢复作用,直流扫描电流崩塌现象在紫外光照下迅速消除,但是紫外光照不能恢复高场应力造成的特性退化。
其他文献
采用水蒸气-水解法制备比表面积高、具有中孔分布的锐钛型二氧化钛粉末,并用X射线衍射、比表面仪、扫描电镜等方法进行表征.以染料ZBF降解为模型反应,对其催化性能进行评价.