用充Kt(CH4)的屏栅电离室测量^64Zn(n,α)^61Ni反应截面和角分布

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用屏栅电离室重点对5.0、5.7、6.5MeV中子^64Zn(n,α)^61Ni反应角分布和微分截面进行了测量,同时兼测^10B(n,α)^7Li,利用氘气体通过D(d,n)^3He反应来刻度,工作气体采用Kr+4.71%CH4·,由于采用了Kr+4.71%CH4为工作气体,消除了^16O的(n,α)干扰。首次很清晰地得了多组激发态的^64Zn(n,α)^61Ni的事件又维谱以及激发态的^10B(n,α)^7Li事件双维谱,测量结果表明^64Zn(n,α)^61Ni的角分布在5.7MeV时很接近
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