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钇,钡,铜超导薄膜的非破坏测定

来源 :光谱学与光谱分析 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jyc894784116
【摘 要】
：
本文配合阶段性薄膜制备工艺,用有限厚度范围内的转换因子法及模拟薄膜标样的基本参数法,X-射线荧光光谱非破坏测定钇、钡、铜超导薄膜。经我们实验,它们与破坏法ICP相比,A（Ba
【作 者】
：
袁宁儿 吉昂 
【机 构】
：
中科院上海硅酸盐研究所,中科院上海硅酸盐研究所200050上海,200050上海,200050上海
【出 处】
：
光谱学与光谱分析
【发表日期】
：
1992年4期
【关键词】
：
非破坏分析 超导 薄膜 X射线荧光 Nondestructive Supperconductive thin films X-ray fluorescent s 
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本文配合阶段性薄膜制备工艺,用有限厚度范围内的转换因子法及模拟薄膜标样的基本参数法,X-射线荧光光谱非破坏测定钇、钡、铜超导薄膜。经我们实验,它们与破坏法ICP相比,A（Ba/Y）克原子比的平均绝对偏差分别为0.15与0.065,A（Cu/Y）克原子比的平均绝对偏差分别为0.14与0.088,模拟薄膜标样的基本参数法优于转换因子法。作者还对薄膜试样非破坏测定中的标样选用进行了探讨。更多还原
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