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抛光垫是晶片化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。研究了抛光垫对光电子晶体材料抛光质量的影响：硬的抛光垫可提高晶片的平面度；软的抛光垫可改善晶片的表面粗糙度；表面开槽和表面粗糙的抛光垫可提高抛光效率；对抛光垫进行适当的修整可使抛光垫表面粗糙。
化学机械抛光工艺中的抛光垫
【摘 要】
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抛光垫是晶片化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。研究了抛光垫对光电子晶体材料抛光质量的影响：硬的抛光垫可提高晶片的平面度；软的抛光垫可改善晶片的表面粗糙度；表面开槽
【机 构】
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盐城工学院,兴化祥盛光电子材料公司
【出 处】
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机械工程与自动化
【发表日期】
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2008年6期
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