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期刊论文
双注入技术进行低剂量监控
双注入技术进行低剂量监控
来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xxasp
【摘 要】
:
研究了影响双注入技术的各种因素及双注入技术的灵敏度,并与C—V技术进行比较。结果表明,双注入技术不仅克服了C-V技术的缺点,而且灵敏度高(可大于1),可靠性好,适用于低剂量(
【作 者】
:
彭进
黄冰
【机 构】
:
中国华晶电子集团公司中央研究所,中国华晶电子集团公司中央研究所无锡214035,无锡214035
【出 处】
:
固体电子学研究与进展
【发表日期】
:
1992年3期
【关键词】
:
双注入
剂量
方块电阻
灵敏度
监控
Double Implantation
Low Dose
Sheet Resistance
Sensitivity
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研究了影响双注入技术的各种因素及双注入技术的灵敏度,并与C—V技术进行比较。结果表明,双注入技术不仅克服了C-V技术的缺点,而且灵敏度高(可大于1),可靠性好,适用于低剂量(10~(10)~10~(12)cm~(-2))注入监控。
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