Si上Si1-x-yGexCy三元合金薄膜的生长

来源 :城市道桥与防洪 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hx8842898

【摘要】

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研究了Si衬底上SiGeC合金薄膜的生长.以C2H4为C源、采用快速加热超低压化学气相淀积(RTP/VLP-CVD)的非平衡生长技术,在Si(100)衬底上生长出具有一定代位式C含量的硅基SiGeC合

【作者】

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朱顺明江宁臧岚韩平刘夏冰程雪梅江若琏郑有炓胡晓宁方家熊

【机构】

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南京大学物理系,210093中国科学院上海技术物理所,200083;

【出处】

：

城市道桥与防洪

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

快速加热超低压化学气相淀积非平衡生长代位式

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研究了Si衬底上SiGeC合金薄膜的生长.以C2H4为C源、采用快速加热超低压化学气相淀积(RTP/VLP-CVD)的非平衡生长技术,在Si(100)衬底上生长出具有一定代位式C含量的硅基SiGeC合金.实验表明:较低的生长温度和较高的SiH4/C2H4流量比有利于代位式C原子的形成和材料晶体质量的提高.

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