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介绍了基片下外加磁场的方法来溅射制备铜膜的实验，结果发现薄膜的表面形貌和微结构与平常磁控溅射法所得的有很大的不同。在溅射过程中等离子体的发光也明显增强。相同的输入功率下，自偏压较磁控溅射有明显下降。研究认为产生以上现象的原因是实验中采用的特殊装置产生的磁镜效应对溅射空间大量离子作用的结果。
基片下磁场中溅射镀铜薄膜及其微结构
【摘 要】
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介绍了基片下外加磁场的方法来溅射制备铜膜的实验，结果发现薄膜的表面形貌和微结构与平常磁控溅射法所得的有很大的不同。在溅射过程中等离子体的发光也明显增强。相同的输入
【机 构】
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苏州大学物理系,苏州大学江苏省薄膜材料重点实验室
【出 处】
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功能材料与器件学报
【发表日期】
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2007年6期
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