【摘 要】
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本文针对激光分束镜的使用要求，着重介绍了10.6μm处1∶1分光且误差不超过±5%薄膜的研究与制备工艺。根据膜系设计基本理论，分别选取Ge和ZnS作为高、低折射率材料，借助膜系
【机 构】
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中国兵器工业标准化研究所,长春理工大学光电工程学院
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本文针对激光分束镜的使用要求，着重介绍了10.6μm处1∶1分光且误差不超过±5%薄膜的研究与制备工艺。根据膜系设计基本理论，分别选取Ge和ZnS作为高、低折射率材料，借助膜系设计软件设计满足要求的膜层，并采用电子枪离子辅助沉积系统进行制备。通过优化镀膜工艺参数，在ZnS基底上制备了10.6μm处（透过率/反射率=49.5∶50.5）满足使用要求的薄膜，膜层具有较好的光学性能，其抗激光损伤、牢固度等性能指标均满足要求。
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