龋坏组织表面负电位及其形成机理的初步探讨

来源 :华西口腔医学杂志 | 被引量 : 0次 | 上传用户：oolongge

【摘要】

：

龋病是口腔常见病和多发病,菌斑是龋病的重要致病因子.黄力子[1]研究认为:龋病发生和发展的过程不只是酸扩散、渗透,引起牙釉质脱矿的化学过程,而是一种电化学腐蚀过程,与牙

【作者】

：

王成龙黄力子李振钢阎鹏王多宁

【机构】

：

第四军医大学口腔医学院预防科,710032;基础部化学教研室

【出处】

：

华西口腔医学杂志

【发表日期】

：

1999年3期

【关键词】

：

组织表面负电位龋病电位变化氧化还原电位牙釉质脱矿口腔常见病发生和发展致病因子牙齿菌斑化学过程腐蚀过程多发病电化学实验渗透患者

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龋病是口腔常见病和多发病,菌斑是龋病的重要致病因子.黄力子[1]研究认为:龋病发生和发展的过程不只是酸扩散、渗透,引起牙釉质脱矿的化学过程,而是一种电化学腐蚀过程,与牙齿表面菌斑的氧化还原电位的变化密切相关.并通过实验发现:龋坏组织表面的电位低于同一患者口内正常牙齿表面的电位.本文旨在对引起龋坏组织表面电位变化的原因进行研究,并探讨这种电位变化对龋病发病的意义.

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