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用于■_e静止质量测量的大面积离子注入氚源
用于■_e静止质量测量的大面积离子注入氚源
来源 :原子能科学技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xjjxffxxff
【摘 要】
:
文章叙述了用于■_e静止质量测量的大面积离子注入氚源的制备原理、方法和装置,通过实验选择了合适的离子注入条件,分析了离子注入氚源的强度、均匀性、注入深度及氚的逃逸等
【作 者】
:
赵政国
吴维民
【机 构】
:
中国科学技术大学,中国科学技术大学合肥,合肥,合肥
【出 处】
:
原子能科学技术
【发表日期】
:
1991年4期
【关键词】
:
离子注入
氚
中微子
质量
测量
Ion
Implantation
Neutrino
Tritium
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文章叙述了用于■_e静止质量测量的大面积离子注入氚源的制备原理、方法和装置,通过实验选择了合适的离子注入条件,分析了离子注入氚源的强度、均匀性、注入深度及氚的逃逸等特性。
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