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为研究Si表面化学沉积的SiO2膜在Si片单面制绒中的保护作用，纳米级厚度的SiO2膜被沉积在单晶Si片表面（形成SiO2@Si片），并在碱液和商业制绒液中研究其保护作用。结果发现，在2MNaOH碱液中，经过30min刻蚀，SiO2@Si片比裸Si片的质量损失少10％。进一步，在商业制绒剂中刻蚀后，扫描电镜（SEM）形貌表征显示SiO2@Si片表面并没有刻蚀出金字塔型绒面结构，这说明SiO2掩膜对Si基底具有良好的保护作用，或可作为Si单面制绒的新型保护膜。