SiO2表面改性对间位芳纶绝缘纸性能的影响

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【摘要】

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为了分析SiO2纳米颗粒表面接枝硅烷偶联剂KH550对间位芳纶绝缘纸(PMIA)性能的影响,利用分子动力学方法,建立了表面改性SiO2掺杂PMIA的复合模型。研究了表面接枝率分别为6%和1

【作者】

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李亚莎孟凡强章小彬周筱梅益明

【机构】

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三峡大学电气与新能源学院

【出处】

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绝缘材料

【发表日期】

：

2019年7期

【关键词】

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芳纶绝缘纸改性二氧化硅硅烷偶联剂分子动力学模拟

【基金项目】

：

国家自然科学基金资助项目(51577105)

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为了分析SiO2纳米颗粒表面接枝硅烷偶联剂KH550对间位芳纶绝缘纸(PMIA)性能的影响,利用分子动力学方法,建立了表面改性SiO2掺杂PMIA的复合模型。研究了表面接枝率分别为6%和12%的SiO2对PMIA玻璃化转变温度、热稳定性和力学性能的影响。结果表明:对纳米SiO2适当的接枝改性能够进一步提升间位芳纶绝缘纸的热稳定性和力学性能。与不接枝硅烷偶联剂的SiO2相比,表面接枝率为6%的SiO2对PMIA玻璃化转变温度的提升幅度更大,同时在均方位移方面展现出的减弱分子链运动能力以及在力学性能方面表现出

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