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介绍了表面传导电子发射显示(SED),采取了一种使用PdO膜和ZnO膜磁控溅射制作SED的方法,它具有发射均匀的优点。SED器件的电极厚度、导电膜材料、导电膜宽度对发射性能有很大影响,文中对这些参数进行了讨论。通过参数的优化,得到了稳定、均匀的电子发射。
SED的磁控溅射法制作技术试验研究
【摘 要】
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介绍了表面传导电子发射显示(SED),采取了一种使用PdO膜和ZnO膜磁控溅射制作SED的方法,它具有发射均匀的优点。SED器件的电极厚度、导电膜材料、导电膜宽度对发射性能有很大
【机 构】
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西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室,西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室,陕西西安710049
【出 处】
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真空电子技术
【发表日期】
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2008年2期
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