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采用碳热还原法在温度为１１２０－１６７０℃、压力为０．１ＭＰａ的Ｎ２条件下，在石墨电阻炉内制备出直径为５０－１７００ｎｍ，长度为５－３１２．５μｍ的ＮｂＣｘ（ｘ＝０．９５）晶须。本文介绍了制备的工艺条件及相应的晶须形貌和生长机制。
NbCx晶须的制备
【摘 要】
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采用碳热还原法在温度为１１２０－１６７０℃、压力为０．１ＭＰａ的Ｎ２条件下，在石墨电阻炉内制备出直径为５０－１７００ｎｍ，长度为５－３１２．５μｍ的ＮｂＣｘ（ｘ＝０．９５）晶须。本文介绍了制备的工艺条件及相应的晶须形貌和生长机制。
【机 构】
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清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,100084
【出 处】
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金属学报
【发表日期】
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1998年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金!59425007,59432033
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