论文部分内容阅读
2013年11月，三菱树脂开发出水蒸气透过率为10-4g（m2．d）就具有较高阻隔性的透明气体阻隔膜“X-BARRIER”。该薄膜是利用真空蒸镀在基材（PET和尼龙等）薄膜表面上涂布厚度为10nm左右的硅氧化物膜薄层后制成的。通过优化硅氧化物膜的成膜条件，制成了细密膜。与该公司原有的“TECHBARRIER”相比，新薄膜的水蒸气阳隔率提高2～3个数量级。