【摘 要】
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光刻技术（lithography）是微纳结构制备的关键技术之一.受限于光的衍射极限,传统光刻方法进一步缩小特征尺寸变得越来越难.表面等离子激元（surface plasmon polariton,SPP）作为光
【基金项目】
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国家重点基础研究发展计划(批准号:2013CBA01704);国家自然科学基金(批准号:61575104,61621064)资助的课题~~
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光刻技术（lithography）是微纳结构制备的关键技术之一.受限于光的衍射极限,传统光刻方法进一步缩小特征尺寸变得越来越难.表面等离子激元（surface plasmon polariton,SPP）作为光与金属表面自由电子密度振荡相互耦合形成的一种特殊电磁形式,具有波长短、场密度大、异常色散等特点,在突破传统光学衍射极限的研究和应用中具有重要的学术和实用价值.本文针对SPP在光刻胶中的非线性吸收及其在大视场纳米光刻中的应用进行了理论和实验探索.在回顾SPP概念的基础上,阐述了双SPP吸收的概念及其应
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