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为实现45纳米光刻技术．浸没式光刻几乎是近年来被业界最频繁提及的光键词了．随着浸没式光刻应用于在45nm技术尘埃落定后．同时也可能延伸到32nm．与之相辅的新材料的开发也步入了白热化的阶段．光刻胶作为光刻材料的主力，更是如此。
TOK：加大研发力度，积极开拓光刻胶市场
【摘 要】
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为实现45纳米光刻技术．浸没式光刻几乎是近年来被业界最频繁提及的光键词了．随着浸没式光刻应用于在45nm技术尘埃落定后．同时也可能延伸到32nm．与之相辅的新材料的开发也步入了白
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2007年3期
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