PT/P(VDF—TrFE)/多孔氧化硅衬底热释电传感器研制

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用电化学方法制备多孔化率约69%的多孔硅,在湿氧中氧化成多孔氧化硅,作热释电传感器的衬底,将用溶胶-凝胶法制备的钛酸铅(PT)纳米粉粒掺入聚偏氟乙烯/三氟乙烯共聚的中形成PT/P(VDF-TrFE)热释电得复合敏感膜。PT粉粒的掺入体系比为0.12时,与成膜条件要同的P(VDF-TrFE)膜相比,,热释电优值提高20%,探测优值提高35%。多孔氧化硅结构降低了衬底的热导率和元件热容,使多孔硅衬底传
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