基体温度对磁控溅射沉积ZAO薄膜性能的影响

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:weijiang321
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
利用中频交流磁控溅射方法,采用氧化锌铝陶瓷靶材[ω(ZnO)=98%、ω(Al2O3)=2%]制备了ZA0(ZnO:A1)薄膜,观察了基体温度对ZAO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响,采用X射线衍射仪对薄膜的结构进行了分析,采用光学分度计和电阻测试仪测量了薄膜的光学、电学特性,采用霍尔测试仪测量了薄膜的载流子浓度和霍尔迁移率。结果表明:沉积薄膜时的基体温度对薄膜的结构、结晶状况、可见光透射率以及导电性有较大的影响。当基体温度为250℃,Ar分压为0.8Pa时,薄膜的最低电阻率为4.6×10^
其他文献