【摘 要】
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本文介绍采用石英晶体测厚仪测得铬靶不同方位上的溅射沉积速率,试验结果表明不同方位上的沉积速率为正态分布,其表达式为 y=66exp-(X-74.18)~2/2×2×33.93~2 当溅射入射角
【机 构】
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航空航天工业部成都发动机公司,航空航天工业部成都发动机公司,航空航天工业部成都发动机公司,航空航天工业部成都发动机公司,航空航天工业部成都发动机公司,航空航天工业部成都发动机公司 610067,610
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本文介绍采用石英晶体测厚仪测得铬靶不同方位上的溅射沉积速率,试验结果表明不同方位上的沉积速率为正态分布,其表达式为 y=66exp-(X-74.18)~2/2×2×33.93~2 当溅射入射角为45°时,其分布峰值在74.18°,不在45°的反射方向上。而溅射沉积速率与接收距离平方成反比,其表达式为 y=-45.8+19686.3(1/X)-249430(1/X~2)
In this paper, the sputtering deposition rate measured by quartz crystal thickness gauge in different azimuths of chromium target is introduced. The experimental results show that the deposition rate is normal distribution in different azimuths, and the expression is y = 66exp- (X-74.18) ~ 2 /2 × 2 × 33.93 ~ 2 When the incident angle of sputtering is 45 °, its distribution peak is at 74.18 °, not in the reflection direction of 45 °. The sputter deposition rate is inversely proportional to the square of the receiving distance, and its expression is y = -45.8 + 19686.3 (1 / X) -249430 (1 / X ~ 2)
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