电子回旋共振等离子体溅射沉积薄膜的技术

来源 :苏州大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yy19880904
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本文推出了利用电子回旋共振(ECR)等离子体在低温(~室温)和低压下(10-5~10-3Torr)产生的高密度、高电离度的等离子体溅射沉积薄膜的新技术、叙述了微波ECR等离子体溅射沉积薄膜的装置、原理。研究了微波ECR等离子体沉积金属薄膜时各工作参数之间的关系和工作参数对薄膜沉积速率的影响、分析了微波ECR等离子体对成膜速率产生影响的原因。更多还原
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