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离子源技术是等离子体研究中的一项重要内容，而低能大束流源则是离子源技术研究中的一个重要方向，因为这样的源在离子束刻蚀、离子束溅射镀膜以及荷能粒子与物质相互作用方面都有广泛的应用；本文采用空心阴极空心阳极结构，用热阴极电子发射弧放电驱动并用磁场约束产生等离子体，用曲面发射引出离子束，研制成了氩气放电溅射离子源；研究了灯丝加热电流、弧压对弧流的影响和弧流与工作气体压力对离子束引出的影响规律。离子源的引出电压在0-4．0kV之间连续可调，最大引出束流为100mA，束斑面积为Ф6．0cm，以Ti为溅射靶时的最大溅