低温高压条件下裂解聚吡咙薄膜导电性的初步研究

来源 :高压物理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lishao_minlimin
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通过对裂解聚吡咙(PMDA-DAB)薄膜导电性与环境温度、裂解温度及压力关系的研究表明:其室温电导率随所加压力与裂解温度的升高而增加。电导与温度的依赖行为有赖于裂解温度Tp及所加的压力。在Tp〈800℃时,碳化过程产物能符合三维变程跃迁模型;而在Tp〉800℃时,石墨化过程产物则比较符合修正的三维变程跃迁模型。最大的电导率是在裂解温度为1200℃的裂解产物上在1.05GPa压力下获得的,数值约10
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