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采用氟化物氢还原的方法制备钨涂层.结果显示涂层的厚度可达150微米以上,密度为理论密度的99%,纯度可达99.9%.采用扫描电境分析沉积层组织形貌,结果显示气相沉积钨是沿沉积方向上生成柱状晶体结构.
氟化物气相沉积制备钨涂层
【摘 要】
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采用氟化物氢还原的方法制备钨涂层.结果显示涂层的厚度可达150微米以上,密度为理论密度的99%,纯度可达99.9%.采用扫描电境分析沉积层组织形貌,结果显示气相沉积钨是沿沉积方
【机 构】
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西北有色金属研究院
【出 处】
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硬质合金
【发表日期】
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2003年3期
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