【摘 要】
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采用脉冲激光沉积（LPA）法,在单晶Si表面制备了调制周期为50nm的不同调制比的TiN/AlN多层膜,并研究了调制比对多层膜微结构和力学性能的影响。扫描电镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）显示
【机 构】
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浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室,嘉兴职业技术学院
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采用脉冲激光沉积（LPA）法,在单晶Si表面制备了调制周期为50nm的不同调制比的TiN/AlN多层膜,并研究了调制比对多层膜微结构和力学性能的影响。扫描电镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）显示,薄膜的调制比在1～4之间。并且小调制比下薄膜表面的岛密度小,岛面积过大,分布不均匀,相邻岛之间的起伏较大。X射线衍射（XRD）结果表明,小调制比下,AlN相为明显的（002）择优取向,TiN相主要以（200）、（220）形式存在;调制比增大后,AlN相的择优取向减弱,同时伴随着薄膜晶粒的细化及硬度增强,这一研究
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